LUCON

Anwendungen

Abdeckung

Photoresist auf vertiefter Struktur:

 Photoresist

Photoresist

ProzessKonzeptDatenAnwendungen

 Beispielsubstrate: Keramik, Silizium, Polymid, Laminate

Keramik   Silizium   Polymid

  Substrat   Substrat   Leiterbahn

 Verfahren: Dünnschicht prozesse, Dickschichtprozesse
 Schichten: Ti /Pd / Au /Al

 


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